Diffusion Barriers for VLSI Applications

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California Institute of Technology, 1988 - 244 Seiten

Bibliografische Informationen

TitelDiffusion Barriers for VLSI Applications
CIT theses
Autor/inFrank Cheung Tao So
Mitwirkende PersonenCalifornia Institute of Technology. Division of Engineering and Applied Science
VerlagCalifornia Institute of Technology, 1988
Länge244 Seiten
  
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